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產品及應用

SiC晶圓激光快速退火系統

產品介紹

采用激光對重摻雜 SiC 表面沉積一種或幾種過渡金屬進行合金化,精確控制激光能量和分布,形成良好的歐姆接觸。采用激光方式可忽略襯底正面結構的影響,更好的與減薄工藝兼容,簡化工藝流程,提高器件性能。

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產品特點
  • ·  支持薄片退火                                           ·  優秀的退火表面形貌和電學特征

  • ·  10-5Ωcm2量級的比接觸電阻率             

  •  ·  高效率、低成本控制

  • ·  I F 值提高 30% 以上                                 ·  完整的全程監控反饋功能


應用產品類型

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技術指標

 

 

項目LA2540S LA2550S
晶圓尺寸4/6 Inch 兼容
典型掃描時間180 sec/p @4 inch90 sec/p @4 inch
激光能量密度≥ 5J/cm2
激光輸出穩定性≤ 2%,RMS,4hrs
比電阻接觸率

≤ 10 -5Ωcm2

自動傳片系統雙 LoadPort、多關節機器手、預準直器

 

 

應用案例

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Chengdu Laipu Technology co.,LTD

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